中文名称：硅片氧沉淀特性的测定-间隙氧含量减少法

英文名称：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

标准号：GB/T 19444-2004

标准类型CN

发布日期：2004-2-5

实施日期：2004-7-1

摘要：

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